„Mit dieser Investition können wir den Einsatz von Sputtertargets unter den Prozessbedingungen unserer Kunden simulieren, gezielt neue Beschichtungsmaterialien entwickeln und testen, bestehende Prozesse verbessern und unseren Kunden mit diversen analytischen Methoden unter die Arme greifen“, so Ulrich Lausecker,  Geschäftssegmentleiter Beschichtung bei PLANSEE HLW.

Damit hat PLANSEE HLW die Voraussetzung geschaffen, die Entwicklung, Weiterentwicklung und Optimierung von Beschichtungsprodukten dramatisch zu beschleunigen – für Anwendungsfelder wie TFT-Flachbildschirme, Dünnschichtsolarzellen, Architekturglas, Lösungen für optische Systeme und Datenspeicher oder Hartstoffschichten für Bearbeitungswerkzeuge.

Herzstück der neuen Anlage ist eine Sputterkammer, in der eine Vielzahl von PVD-Beschichtungsverfahren abgedeckt werden kann. Das Resultat: Beschichtete Substrate im Versuchsmaßstab mit einigen Zentimetern Kantenlänge. Im Reinraum werden die Testsubstrate analysiert: Passt die elektrische Leitfähigkeit? Stimmen die Schichtdicke, optische Eigenschaften und die Haftfestigkeit? Unter welchen inneren Spannungen steht die Schicht? Um diesen Fragen nachzugehen, stehen Profilometer, Spektrometer, Mikrohärteprüfer und weitere Analyseinstrumente zur Verfügung. Highlight ist ein hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop, mit der die innere Struktur der Schichten mit einer Auflösung von Nanometern analysiert wird. Als vakuumverpacktes Muster können die Proben für weitere Untersuchungen an Kunden und Partnerinstitute versandt werden.

Ulrich Lausecker: „Mit der neuen Beschichtungsanlage bietet Plansee HLW seinen Kunden von der Entwicklung über die Produktion und Analyse von Sputtertargets einen Kompetenz-Cluster auf höchstem technologischen Niveau – und die längste Wertschöpfungskette aller Sputtertarget-Hersteller.“