Die Implantation von Ionen ist eine Schlüsseltechnologie zur Dotierung von Halbleitern bei der Herstellung mikroelektronischer Bauelemente oder Dünnschichttransistoren.
PLANSEE liefert hierzu Ionisationskammern aus Molybdän oder Wolfram in denen aus gasförmigen, teilweise aggressiven Verbindungen oder Schmelzen bei Temperaturen bis zu 2000 °C Strahlen aus Stickstoff-, Bor- und Phosphationen erzeugt werden.
Für die Ionenimplantation liefern wir:
- Ionisationskammern und Kammerbauteile aus Wolfram, WL oder Molybdän
- Kathoden und Anoden aus Wolfram
- Blenden u.a. Verschleißteile in der Kammer sowie im Strahltunnel aus Molybdän und WL
- Verbindungs- und Haltelemente wie Stifte, Gasrohre und Schrauben aus Molybdän, Wolfram, WL oder Tantal
- Abschirmungen / Tiegel
